2020年全球半導體清洗設備行業市場現狀及發展前景分析

作者： 2020年12月10日來源：全球化工設備網瀏覽量：

字號：T | T

1、清洗步驟貫穿半導體全產業鏈　　半導體清洗設備直接影響集成電路的成品率，是貫穿半導體產業鏈的重要環節，在單晶硅片制造、光刻、刻蝕、沉積等關鍵制程及封裝工藝中均為必要環節，約

　　1、清洗步驟貫穿半導體全產業鏈

　　半導體清洗設備直接影響集成電路的成品率，是貫穿半導體產業鏈的重要環節，在單晶硅片制造、光刻、刻蝕、沉積等關鍵制程及封裝工藝中均為必要環節，約占所有芯片制造工序步驟30%以上，且隨著節點的推進，清洗工序的數量和重要性會繼續提升，清洗設備的需求量也將相應增加。

2、濕法清洗占據市場90%份額

　　半導體清洗設備針對不同的工藝需求，對晶圓表面進行無損傷清洗以去除半導體制造過程中的顆粒、自然氧化層、金屬污染、有機物、犧牲層、拋光殘留物等雜質。按照清洗原理來分，清洗工藝可分為干法清洗和濕法清洗。在實際生產過程中一般將濕法和干法兩種方法結合使用，目前90%以上的清洗步驟以濕法工藝為主。

　　在濕法清洗工藝路線下，目前主流的清洗設備主要包括單片清洗設備、槽式清洗設備、組合式清洗設備和批式旋轉噴淋清洗設備等，其中以單片清洗設備為主流。

3、全球半導體清洗設備行業馬太效應明顯

　　目前，全球半導體清洗設備市場主要由Screen(日本迪恩士)、TEL(日本東京電子)、Lam Research(美國拉姆研究)和SEMES(韓國)和拉姆研究等日美韓企業瓜分。根據Gartner數據顯示，2018年全球排名前四的企業合計占據約98%的市場份額，行業馬太效應顯著，市場高度集中;其中日本廠商迪恩士以市占率45.1%處于絕對領先地位，而國內清洗設備龍頭盛美半導體市占率僅為2.3%。

4、全球市場規模至2024年有望達到31.93億美元

　　近年來，清潔設備的行業規模呈現波動變化態勢。根據Gartner統計數據，2018年全球半導體清洗設備市場規模為34.17億美元，2019年和2020年受全球半導體行業景氣度下行的影響，有所下降，分別為30.49億美元和25.39億美元，預計2021年隨著全球半導體行業復蘇，全球半導體清洗設備市場將呈逐年增長的趨勢，2024年預計全球半導體清洗設備行業將達到31.93億美元。

全球化工設備網（http://m.shaipo.cn ）友情提醒，轉載請務必注明來源:全球化工設備網！違者必究.

標簽：

分享到：

相關資訊

免責聲明：1、本文系本網編輯轉載或者作者自行發布，本網發布文章的目的在于傳遞更多信息給訪問者，并不代表本網贊同其觀點，同時本網亦不對文章內容的真實性負責。
2、如涉及作品內容、版權和其它問題，請在30日內與本網聯系，我們將在第一時間作出適當處理！有關作品版權事宜請聯系：+86-571-88970062

推薦資訊

最新更新列表

全球化工设备网—化工设备,日韩在线成人,化工机械,一区二区电影,制药设备,亚洲欧美日韩系列,环保设备的专业网络市场。

2020年全球半導體清洗設備行業市場現狀及發展前景分析