小型高溫蒸鍍金屬制備氣相沉積反應(yīng)設(shè)備的簡(jiǎn)單介紹

小型高溫蒸鍍金屬制備氣相沉積反應(yīng)設(shè)備的詳細(xì)信息

小型高溫蒸鍍金屬制備氣相沉積反應(yīng)設(shè)備，小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。
通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

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原樣品沒有鍍膜 115A 100秒 機(jī)械泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘 115A 120秒 分子泵抽20分鐘

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

小型高溫蒸鍍金屬制備氣相沉積反應(yīng)設(shè)備KT-Z1650CVD

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