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2020版藥典丨藥品殘留溶劑分析標準修訂匯總及解決方案

作者: 2021年01月15日 來源:全球化工設備網 瀏覽量:
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藥品中的殘留溶劑系指在原料藥或輔料的生產中,以及在制劑制備過程中使用的,但在工藝過程中未能完全去除的有機溶劑。在原料藥合成工藝中,選擇適當的溶劑可提高產量或決定藥物的性質,如晶型、純度、溶解速率等。因
 

藥品中的殘留溶劑系指在原料藥或輔料的生產中,以及在制劑制備過程中使用的,但在工藝過程中未能完全去除的有機溶劑。在原料藥合成工藝中,選擇適當的溶劑可提高產量或決定藥物的性質,如晶型、純度、溶解速率等。因此有機溶劑在藥物合成反應中是必不可少和非常關鍵的物質。下圖為阿莫西林合成路線,使用了三乙胺((C2H5)3N)。

 

 

阿莫西林合成路線圖

 

當藥品所含的殘留溶劑水平高于安全值時,就會對人體或環境產生危害,應盡可能除去所有殘留溶劑,以符合制劑質量標準、生產質量管理規范(GMP)或其他質量要求。

 

《中國藥典》2020年版《0861殘留溶劑測定法》通則主要根據ICH《IMPURITIES: GUIDELINE FOR RESIDUAL SOLVENTS  Q3C(R7)》制定,藥品中殘留溶劑根據安全性主要分為4類,共涉及70種溶劑。

 

01檢測項目及限量值增修訂變化

 

 異丙基苯從第三類溶劑(限度0.5%)修改為第二類溶劑(限度為0.007%)

 甲基異丁基酮從第三類溶劑(限度0.5%)修改為第二類溶劑(限度為0.45%)

 增加三乙胺(齊多夫定、拉米夫定等需要檢測)為第三類溶劑,限度為0.5%

 “四氫噻吩”修改為“環丁砜”,限度仍為0.016%

 

02 ICH Q3C(R8)征求稿

 

2020年4月29日國家藥品監督管理局藥品審評中心(CDE)在上發布了“關于公開征求ICH《Q3C(R8):雜質:殘留溶劑的指導原則》指導原則草案意見的通知”。本次征求稿增加了3種溶劑限量要求,具體變化如下:

 

 

 

03產品標準執行變化

 

2020版藥典二部化藥共有249個品種標準在【檢查】部分收載“殘留溶劑”項目,相比2015版藥典,42個品種新增訂【殘留溶劑】項目。經統計匯總,2020版藥典化藥二部234個品種標準【殘留溶劑】項目說明了具體的檢測方法(需要檢測溶劑種類、對照、供試品溶液制備、色譜條件、系統適用性要求),“二甲磺酸阿米三星”、“烏苯美司”、“雙環醇”等15個品種標準【殘留溶劑】并沒有說明具體檢測方法,僅提到引用0861通則,其中12個是2020版藥典新增品種。

01分析儀器及附件

 

 

 

 

02常用色譜柱選型方案

 

 

01 GC結合HS-20頂空進樣器測定藥品中18種溶劑殘留

 

18種溶劑標準溶液色譜圖

 

使用純水配制溶劑殘留混合標準系列溶液,每1mL含各種溶劑濃度分別為0.1、0.5、1.0、2.0、5.0µg,制作標準曲線,線性良好。根據0.1μg/mL標準溶液數據,計算方法檢出限(3倍噪聲計算)。各組分檢出限見下表,檢出限均達到通則限度1/30以下,且峰面積重現性良好(頂空進樣精密度RSD應達到10.0%以內)。

 

將溶劑殘留混標溶液添加到市售小兒氨酚烷胺顆粒中,按照樣品前處理方法制備,樣品中加標濃度分別為0.5 μg,樣品加標回收率為87.89 ~117.46%。

 

02 GCMS結合HS-20頂空進樣器測定藥品中19種溶劑殘留

 

19種溶劑混標溶液總離子流色譜圖

 

使用純水配制溶劑殘留混合標準系列溶液,每1mL含各種溶劑濃度分別為0.1、0.5、1.0、2.0、5.0µg,制作標準曲線,線性良好。根據0.1μg/mL標準溶液數據,計算方法檢出限(3倍噪聲計算)。各組分檢出限均遠低于通則限度1/1000以下,且峰面積重現性良好(頂空進樣精密度RSD應達到10.0%以內)。

 

 將溶劑殘留混標溶液添加到市售小兒氨酚烷胺顆粒中,按照樣品前處理方法制備,樣品中加標濃度分別為0.5 μg,樣品加標回收率為75 ~102%。

 

03 頂空-GC 法測定ICH Q3C(R8)征求稿中3種溶劑殘留

 

3 種溶劑殘留混標溶液的色譜圖(1.0 µg)

 

使用去離子水配制溶劑殘留混合標準系列,每1mL含各種溶劑濃度分別為 0.1、0.2、0.5、1.0、2.0、5.0、10.0 µg 的混標系列溶液。根據 0.1 µg 標液數據,以 3 倍信噪比(ASTM)計算檢出限,各物質線性相關系數及檢出限、重復性(頂空進樣精密度RSD應達到10.0%以內)測試結果如下表:

 

 檢測甲磺酸倍他司汀原料藥,按照樣品前處理方法制備,樣品中加標濃度分別為0.2 μg,0.2 μg 加標平均回收率在 88.4%~97.4% 之間。

 

 

 

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