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科研小型PVD真空鍍膜機(jī) 磁控濺射噴鍍導(dǎo)電納米涂層薄膜

作為科研小型PVD真空鍍膜機(jī)，磁控濺射噴鍍導(dǎo)電納米涂層薄膜是一種先進(jìn)的納米材料制備技術(shù)。該技術(shù)利用磁控濺射原理，將靶材表面的原子或分子撞擊出來(lái)，并利用電場(chǎng)的作用，使其沉積在基材表面，形成一層具有一定

氣體質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)

混合氣體配比器的設(shè)計(jì)原理多種多樣，但它們都基于相同的原理：將不同比例的混合氣體通過(guò)管道或容器混合在一起，以達(dá)到所需的組成。這種設(shè)備通常由一個(gè)或多個(gè)氣體源、混合器和流量控制器組成。

微型真空探針臺(tái) 氣敏光學(xué)電信息測(cè)試

微型真空探針臺(tái)是一種用于測(cè)試光學(xué)電信號(hào)的設(shè)備，它具有體積小、重量輕、操作簡(jiǎn)便、可重復(fù)使用等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽(yáng)能等領(lǐng)域

科研真空等離子清洗機(jī) 等離子去膠機(jī)

KT-S2DQX等離子清洗機(jī)定位于小規(guī)模生產(chǎn)及各大院校科學(xué)實(shí)驗(yàn)使用，廣泛應(yīng)用于電子、太陽(yáng)能、汽車(chē)、紡織、包裝印刷、生物醫(yī)療及通用行業(yè)，其特點(diǎn)為處理效率高、重復(fù)性和穩(wěn)定性良好，操作方便，工藝參數(shù)多樣性

等離子清洗機(jī)50W 13.56MHz的射頻電源

KT-S2DQX型等離子清洗機(jī)電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼

CVD有哪些類型 小型濺射儀KT-Z1650PVD

物理氣相沉積（PVD）是一種在目標(biāo)表面上形成薄膜或涂層的過(guò)程，該過(guò)程涉及將材料從固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)。這可以通過(guò)多種方式實(shí)現(xiàn)，如蒸發(fā)、濺射、電弧等。這種沉積方法適用于多種材料，包括金屬、合金、陶瓷和塑料等

小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD

CVD（化學(xué)氣相沉積）是一種制備無(wú)機(jī)和有機(jī)材料的化學(xué)過(guò)程，其基礎(chǔ)是利用氣態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在溫度和壓力作用下，在固體表面或內(nèi)部形成沉積層。CVD技術(shù)可以制備出多種類型的材料，包括金屬、合金、陶瓷、化合物和

真空等離子清洗機(jī)

KT-S2DQX型等離子清洗機(jī)屬于13.56MHz的射頻電源清洗。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)

等離子表面處理機(jī)

該清洗機(jī)內(nèi)置高純石英倉(cāng)體，容積為2升，結(jié)構(gòu)為國(guó)際上的通用的真空石英法蘭密封結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。

等離子清洗機(jī) 樣品表面處理機(jī)

KT-S2DQX型等離子清洗機(jī)屬于13.56MHz的射頻電源清洗。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)